なぜウェーハヒーターの絶縁試験を重視するのか？ ウェーハを高温で加熱する際、最も避けたいのが電気的な漏れです。わずかなスパークや不要な電流があれば、数秒で大量のシリコンが破壊されてしまいます。これは本当に恐ろしい状況です。 そのため、私たちは「サンプル検査」を行いません。数個だけテストして良い結果...

焼損したランプが全体のワークを台無しにするのを防ぐ方法 高負荷でウェーハを加熱処理しているとき、ランプが焼損するのは大変な問題です。単に停止時間が長くなるだけではありません。 石英ランプが破裂したら、ガラスの破片やハロゲンガスが直接シリコンウェーハに降り注ぎます。そうなれば、ウェーハはダメになり、...

ウェーハが加熱されるのを待つ時間を無駄にしないでください。 半導体製造工場で働いたことがある人なら、その「待つ」という苦痛をよく知っているでしょう。 深層加工において最も時間を食うのは、実際の処理自体ではなく、装置の温度上昇や冷却の過程です。従来の強制送風方式では、単に熱い空気を部屋中に送り込むだ...

熱の無駄遣いを止めよう：ウェーハを効率的に加熱する方法 従来の赤外線ランプの問題点は、熱があらゆる方向に放出されてしまうことです。半導体製造装置内で作業する際、これは大きな問題です。高価な装置を使っているにもかかわらず、エネルギーの大部分がウェーハに届くどころか、装置の内壁に当たってしまいます。そ...

ファブ内での炭素排出を削減するために：なぜ赤外線加熱が有効なのか 半導体製造工場をカーボンニュートラルにしようとするなら、もはや従来の抵抗式ヒーターに頼ることはできません。それらはあまりにもエネルギーを無駄にしてしまいます。 最近では、ウェーハ処理用の装置に赤外線加熱ランプを使用しています。その理...

MEMSウェーハの乾燥における電気出力の最大化――金メッキされた反射ヒーターの活用 このヒーターを開発した理由は、投入されるすべての電力がウェーハ上で効果的に熱エネルギーとして利用されるようにするためです。MEMSの製造においては、単に温度を上げるだけでは不十分です。正確で再現性のある熱を供給し、...

リソグラフィーの工程では、温度の変動やゆっくりとした加熱が、本来安定しているはずのプロセスを台無しにしてしまうことがあります。ウェーハの乾燥やソフトベイク、ハードベイクには、再現性が高く、迅速で、かつ安定した熱源が必要です。当社では、追加コストをかけることなく、そのような条件を満たす短波赤外線石英...

Out on the line, the Micro LED wafer comes out of cleaning and just sits there. Any moisture left on the surface is a straight invitation to pattern...