製造現場では、些細なことにも注意を払う必要があります。ソフトベイクの際に温度が0.1℃未満変動するだけで、ウェーハの寸法が狂い、多くのウェーハが廃棄されてしまいます。従来のホットプレート型乾燥装置は熱慣性と戦わなければなりませんが、NIRウェーハ乾燥装置はそうではありません。
私たちが開発したものと、その重要性 私たちは近赤外線を利用した乾燥装置を開発しました。その利点は、エネルギーを直接フォトレジスト層に伝達できる点です。これにより、全体のベイキングプロセスにおいて±0.1℃以内の均一性が保たれ、再現性も高く、工程管理の範囲内に収まります。また、クラス1～100の清浄室で使用でき、粒子の発生もありません。この装置は24時間365日稼働可能で、パイロット運用時に予期しない停止は一切ありません。寿命は数万回の稼働にも耐えられます。
なぜこれがリソグラフィーに適しているのか リソグラフィーにおいて、ソフトベイクやハードベイクはフォトレジストの粘度を調整し、溶剤を除去し、側壁の形状を決定します。このNIR乾燥装置を使えば、ウェーハ表面の温度を安定させることができます。最初のロットから50番目のロットまで、熱的条件が一定に保たれます。その結果、ベイキング時間が短縮され、エネルギー消費も減少し、熱的不均一性による不良品も減ります。工程の幅が広がり、既存のラインに簡単に統合できます。
計画する際に注意すべき点 NIR乾燥装置では、ウェーハに対して直接的な視線が必要であり、反射経路も制御されている必要があります。積み重ねられたキャリアや非標準的なチャックは、基板上の光を遮ってしまう可能性があります。専用の固定具を用意し、ラインの配置に合わせて設置する必要があります。一度正しく配置すれば、メンテナンスを最小限に抑えつつ、繰り返し安定したベイキング性能が得られます。しかし、設置精度は接触型システムよりも厳格です。