世界の半導体機器貿易

300mmウェーハを使う場合、フォトレジストのベイク処理中に0.5℃の温度変動があると、それは単にグラフ上に反映されるだけではありません。実際には、重要な寸法がナノメートル単位で変化し、その結果、歩留まりの低下という形で直接的な影響が出ます。リソグラフィーやレジスト処理において、温度というのは単な...